衬底温度对纳米晶SnO2薄膜结晶特性的影响

• 作者: 王占和 祝侃 蒋耘晨
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 纳米晶 SnO2薄膜 结晶特性 FE-SEM
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 纳米材料与结构
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1866字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.04.004

摘要

阐述了金属氧化物SnO2纳米薄膜研究的发展情况及其应用前景,介绍了采用磁控溅射技术,使用混合气体Ar和O2,在衬底温度为150～400℃的耐热玻璃基片上制备了纳米晶SnO2:Sb透明导电薄膜.通过测定X射线衍射谱,表明薄膜择优取向为[110]和[211]方向,SnO2:Sb薄膜的结晶特性随衬底温度变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王占和	北京理工大学电子工程系	12	198	5.0	12.0
2	蒋耘晨	北京理工大学电子工程系	20	111	6.0	10.0
3	祝侃	北京理工大学电子工程系	4	32	2.0	4.0