折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

• 作者: 吴广明 孙琪 沈军 王珏 程银兵 马建华 魏建东
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 溶胶-凝胶 SiO2疏水薄膜 表面修饰 氨处理
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 335-339
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.013

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过控制制备条件,结合三甲基氯硅烷(TMCS)对SiO2胶粒表面的修饰过程,制备出折射率可调的疏水型SiO2薄膜.对薄膜采用了不同的后处理方式,研究了氨和水蒸气混合气体热处理技术对薄膜疏水性能的影响.采用椭偏仪、FTIR和接触角测试仪对薄膜的折射率、红外特性、接触角等的测试研究表明:疏水型SiO2薄膜的折射率可在1.35～1.20之间连续可调,与传统热处理相比,混合气氛热处理使薄膜的折射率略有增加,在所研究的范围内折射率平均增加0.02左右;SiO2胶粒表面的亲水性OH基团可基本被非活性CH3基团代替,薄膜的疏水能力得到进一步提高;接触角由未作表面修饰时的40°左右增加到表面修饰并结合混合气氛热处理的137°左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
2	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
3	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
4	马建华	同济大学波耳固体物理研究所	11	275	10.0	11.0
5	程银兵	同济大学波耳固体物理研究所	6	162	5.0	6.0
6	魏建东	同济大学波耳固体物理研究所	10	179	9.0	10.0
7	孙琪	同济大学波耳固体物理研究所	3	63	3.0	3.0