日本加速开发0.07微米半导体生产技术

• 来源期刊: 电源世界
• 学科: 经济
• 关键词: 半导体生产工艺 半导体技术 生产技术研究 筑波 日本 微米 试生产 加速开发 光刻 富士通
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 页码范围: 69-69
• 页数: 1页
• 分类号: F416.63

摘要

由日本NEC等11家企业共同出资成立的半导体生产技术研究公司—Selete公司已决定投资2.33亿美元,在筑波等三地同时进行下一代半导体技术的开发。其开发的重点是最先进的半导体生产所需的光刻和连线技术。新的试生产线的地点有两处设在日本茨城的筑波市,另一处设在琦玉的杉户。Selete公司受日本13家半导体厂(NEC、富士通、日立、东芝、三菱电机、