污湿环境中合成绝缘子憎水性影响因素分析

• 作者: 司马文霞 孙才新 李名加 王进华 蒋兴良
• 来源期刊: 高电压技术
• 学科: 工学
• 关键词: 合成绝缘子 憎水性 pH值 等值盐密 灰密
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与专题论述
• 页码范围: 5-6,33
• 页数: 3页
• 分类号: TM216
• 字数: 2218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6520.2002.09.003

摘要

实验并分析了污湿环境中影响合成绝缘子憎水性的各种因素.结果表明:酸性物质对憎水性影响较小,碱性物质使憎水性减弱;污秽层附着于硅橡胶表面的时间越长则憎水性越强;ESDD值越高则憎水性越弱;NSDD对憎水性影响较小;合成绝缘子不明原因闪络并非污湿闪络.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	司马文霞	重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室	145	4616	41.0	59.0
2	孙才新	重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室	379	13536	63.0	93.0
3	蒋兴良	重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室	218	5355	38.0	64.0
4	李名加	重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室	2	42	1.0	2.0
5	王进华	重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室	2	133	2.0	2.0