具有分隔层Bi的反铁磁/铁磁双层薄膜间的短程交换耦合

• 作者: 于广华 何珂 朱逢吾 李明华 赖武彦
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 交换偏置, 分隔层, 织构, XPS
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2854-2857
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3291字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.12.033

摘要

用磁控溅射方法制备了NiFeⅠ/FeMn/Bi/NiFeⅡ薄膜,研究了反铁磁薄膜FeMn与铁磁薄膜NiFeⅠ及NiFeⅡ间的交换偏置场Hex相对于分隔层Bi厚度的变化.发现随分隔层Bi厚度的增加,FeMn与NiFeⅠ间的交换偏置场Hex1几乎不变,FeMn与NiFeⅡ间的交换偏置场Hex2急剧减小.当Bi的厚度超过0.6 nm时,FeMn与NiFeⅡ之间的交换偏置场从6.925下降为0.876kA*m-1.x射线光电子能谱(XPS)分析表明,沉积在FeMn/ NiFeⅡ界面的Bi并没有全部停留在界面处,至少有部分偏聚到NiFeⅡ层表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明华	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	15	87	6.0	9.0
3	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
6	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
7	赖武彦	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	23	143	7.0	11.0
8	何珂	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	6	28	3.0	5.0