铜酞菁缓冲层改善有机电致发光器件性能的机理研究

• 作者: 张德强 王立铎 胡远川 董桂芳 邱勇
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 电致发光 铜酞菁缓冲层 界面电阻
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 321-323
• 页数: 3页
• 分类号: O621.2
• 字数: 3151字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.03.035

摘要

利用铜酞菁薄膜充当缓冲层,研究了缓冲层对有机电致发光器件性能的影响,研究结果表明含有铜酞菁缓冲层的器件性能明显优于不含有缓冲层的器件,加入铜酞菁缓冲层后器件发光稳定性也得到了改善.本文对相关机理进行了探讨,分析认为,铜酞菁本身的热稳定性和它能够降低空穴注入势垒的性质是提高器件性能的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱勇	清华大学化学系	91	750	15.0	25.0
2	王立铎	清华大学化学系	18	174	7.0	13.0
3	张德强	清华大学化学系	9	80	4.0	8.0
4	董桂芳	清华大学化学系	13	142	7.0	11.0
5	胡远川	清华大学化学系	2	43	2.0	2.0