新型智能电化学微加工系统的研究

• 作者: 刘品宽 孙立宁 田昭武 荣伟彬 蒋利民
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 约束刻蚀剂层技术 纳米级微定位 压电陶瓷驱动器
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 先进制造与自动化技术
• 页码范围: 83-87
• 页数: 5页
• 分类号: TG66
• 字数: 2586字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.2002.06.018

摘要

约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发.利用研制的加工仪器,在半导体GaAs进行刻蚀加工,复制出微孔阵列,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好,同时在铜板上也成功进行了微孔刻蚀加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	荣伟彬	哈尔滨工业大学机器人研究所	98	1491	23.0	33.0
2	孙立宁	哈尔滨工业大学机器人研究所	379	7003	43.0	61.0
3	田昭武	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	11	95	4.0	9.0
4	刘品宽	哈尔滨工业大学机器人研究所	19	609	15.0	19.0
5	蒋利民	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	4	66	4.0	4.0