常压等离子体渗氮工艺的研究

• 作者: 严立 史雅琴 朱新河 杨毅 秦艳 许久军 高玉周
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 电介质阻挡放电 等离子体渗氮
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 新工艺
• 页码范围: 12-14
• 页数: 3页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 1672字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2002.01.006

摘要

利用介质阻挡放电原理,在自行研制的设备上进行了常压非平衡等离子体渗氮.研究表明,在等离子环境中,试样表面能迅速获得很深的渗层和白亮层,而电场外试样几乎无渗层.说明电场内气体电离率高,活性粒子浓度高.整个工艺过程操作简便,是一种很有发展前景的新工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱新河	大连海事大学金属材料工艺所	86	538	12.0	19.0
2	严立	大连海事大学金属材料工艺所	75	645	13.0	20.0
3	高玉周	大连海事大学金属材料工艺所	44	467	12.0	19.0
4	史雅琴	大连海事大学金属材料工艺所	23	211	7.0	14.0
5	秦艳	大连海事大学金属材料工艺所	6	27	3.0	5.0
6	杨毅	大连海事大学金属材料工艺所	4	13	2.0	3.0
7	许久军	大连海事大学金属材料工艺所	1	9	1.0	1.0