无掩模激光干涉光刻技术研究术

• 作者: 冯伯儒 宗德蓉 张锦 苏平 蒋世磊 陈宝钦 陈芬
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微光刻技术 干涉光刻 场发射显示器 无掩模光刻技术
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.03.010

摘要

介绍了一种不用掩模的光刻技术--激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析.研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点.