铁电铌酸锶钡薄膜的结构特性研究

• 作者: Mak C.L Melanie M.T.Ho 叶辉
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 铌酸锶钡 微结构 薄膜厚度
• 年，卷（期）: 2002,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1228-1232
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 3827字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备铁电铌酸锶钡薄膜,使用X射线衍射、摇摆曲线、扫描电子显微镜、喇曼散射光谱等测试手段研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,制备的薄膜厚度可达到5μm.实验发现,随着薄膜厚度的增加,SBN60和SBN75薄膜在(001)方向的优先取向性越来越好.随着膜层的增加,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配,从而使得晶体的结晶取向性越来越好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶辉		50	406	9.0	18.0