WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析

• 作者: 刘祖黎 姚凯伦 方国家
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 三氧化钨薄膜 纳米晶 脉冲准分子激光沉积(PLD) 结构分析 Si(111)衬底
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 139-144
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.023

摘要

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300°C以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚凯伦	华中科技大学激光技术国家重点实验室和物理系	32	341	10.0	17.0
3	刘祖黎	华中科技大学激光技术国家重点实验室和物理系	36	485	12.0	21.0