两个玉米矮花叶病显性互补抗病基因的发现和定位

• 作者: 丁俊强 吴建宇 杜彦修 陈伟程
• 来源期刊: 遗传学报
• 学科: 生物学
• 关键词: 玉米 玉米矮花叶病 抗病基因 显性互补基因 分子标记
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 页码范围: 1095-1099
• 页数: 5页
• 分类号: Q943
• 字数: 1366字
• 语种: 中文

摘要

玉米矮花叶病是世界普遍发生危害严重的玉米病毒病害之一.迄今为止,只有少数几个抗病基因被发现并定位.优良自交系四一是鉴定出的玉米矮花叶病新抗源,它表现为全生育期抗性.通过连续两年的经典遗传学研究发现,四一的成株期抗性表现为一种新的抗病遗传模式,该抗性是由两个显性互补抗病基因控制.87对微卫星标记分析进一步证实了以上推论,并把两个抗病基因分别定位在第三和第六染色体上,第三染色体上的抗病基因与微卫星标记phi029相距14.5cM,第六染色体上的抗病基因与微卫星标记phi126相距7.2cM.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈伟程	河南农业大学农学院	18	338	9.0	18.0
2	吴建宇	河南农业大学农学院	55	668	15.0	24.0
3	丁俊强	河南农业大学农学院	25	258	10.0	15.0
4	杜彦修	河南农业大学农学院	16	109	6.0	10.0