等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

• 作者: 张仲麟 袁力江 雷明凯
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化铝薄膜 等离子体源 磁控溅射沉积 折射率
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 887-890
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1813字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.042

摘要

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷明凯	大连理工大学材料工程系表面工程研究室	115	712	14.0	19.0
2	袁力江	大连理工大学材料工程系表面工程研究室	6	31	4.0	5.0
3	张仲麟	大连理工大学材料工程系表面工程研究室	2	18	2.0	2.0