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文献信息
| 篇名 | 用半导体工业的超纯水发生高浓度臭氧化水的新方法 | ||
| 来源期刊 | 水处理信息报导 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 臭氧化 超纯水 半导体工业 超纯水 | ||
| 年，卷（期） | sclxxbd_2002,（3） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 37 | |
| 页数 | 1页 | 分类号 | TQ085 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
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研究主题发展历程
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臭氧化
超纯水
半导体工业
超纯水
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相关学者/机构
期刊影响力
水处理信息报导
主办单位：
全国工业水处理站
中国化工学会工业水处理专业委员会
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
天津市丁字沽三号路85号化工部天津化工研
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
4709
总下载数（次）
8
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