一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

• 作者: 严晓浪 付萍 史峥 王国雄 陈志锦
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学邻近校正(OPC) 光刻模拟 二维轮廓提取
• 年，卷（期）: 2002,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 766-771
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4019字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.07.019

摘要

在一种新颖的快速光刻模拟算法的基础上,提出了一种新的基于稀疏空间点光强计算的二维成像轮廓提取算法.该算法能够根据版图特点合理选择采样线的位置,有效地确定轮廓线存在的范围,并根据在采样线上光强单调分布的特性来快速地搜寻轮廓点.实验表明,这是一种快速高效的轮廓提取方案,能够适应光学邻近校正中巨大的运算量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史峥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	51	176	7.0	11.0
2	严晓浪	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	246	1634	19.0	29.0
3	陈志锦	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	7	51	4.0	7.0
4	王国雄	鞍山钢铁学院电子与信息工程学院	2	26	2.0	2.0