电解致酸脱保护DNA在片合成研究

• 作者: 何农跃 徐吉庆 王轶文 陈扬
• 来源期刊: 东南大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 基因芯片 在片合成 电解致酸脱保护 金片硫醇自组装 DMT紫外吸收
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: O643.4
• 字数: 2116字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-0505.2002.01.018

摘要

提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法.在2.0?V电解电位下电解水,释放氢离子并富集于阳极极板附近,导致局部酸度增强,使核酸单体分子发生脱保护反应.测定了该合成方法的合成产率与电解时间,支持电解质浓度,水浓度等条件的关系.结果表明,电解时间越长,脱保护效率越高,两者基本呈线性关系;支持电解质浓度与水浓度等条件对脱保护效率基本无影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈扬	东南大学分子与生物分子电子学教育部重点实验室	7	16	2.0	3.0
2	何农跃	东南大学分子与生物分子电子学教育部重点实验室	72	707	15.0	23.0
3	徐吉庆		4	24	2.0	4.0
4	王轶文	东南大学分子与生物分子电子学教育部重点实验室	6	38	3.0	6.0