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摘要:
研究了光照对砷化镓阈值电压均匀性的影响.结果表明光照使耗尽型MESFET器件的沟道电流增大,使阈值电压向负方向增加,并提高了阈值电压的均匀性.研究认为砷化镓单晶材料的深能级缺陷是影响MESFET阈值电压均匀性的重要因素之一,而光照在一定程度上减弱了这一影响.
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文献信息
篇名 光照对阈值电压均匀性的影响
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 砷化镓 MESFET 光敏效应 阈值电压
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 165-168
页数 4页 分类号 TN386
字数 2495字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.02.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 夏冠群 中国科学院上海冶金研究所 61 307 9.0 16.0
2 詹琰 中国科学院上海冶金研究所 26 83 5.0 8.0
3 李传海 中国科学院上海冶金研究所 3 1 1.0 1.0
5 朱朝嵩 中国科学院上海冶金研究所 4 1 1.0 1.0
传播情况
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2002(0)
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研究主题发展历程
节点文献
砷化镓
MESFET
光敏效应
阈值电压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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