氮化碳薄膜的电子结构和光学性质

• 作者: 杨兵初 罗成林
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化碳薄膜 光学性质 射频溅射 电子结构
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2170字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2002.01.011

摘要

在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜. 薄膜的电子结构和元素成分用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和光电子能谱(XPS)进行分析, 薄膜的光学性质用紫外可见近红外光谱(UV)进行检测. 薄膜中的最大氮原子含量达到0.47, C1s和N1s电子的结合能产生了+2.41～-1.7eV的移动, 移动的大小取决于制备条件. UV谱表明氮化碳薄膜能强烈地吸收紫外光, 而对红外光有较好的透明性, 在2720nm附近存在一明锐的吸收峰, 并给出了形成这一明锐吸收峰的适宜条件. 这些结果对作为保护光学涂层的红外应用是有意义的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵初	中南大学应用物理与热能工程系	65	347	10.0	13.0
2	罗成林	中南大学应用物理与热能工程系	7	36	3.0	5.0