波导材料二氧化硅厚膜的快速生长

• 作者: 刘国范 吴远大 张乐天 张玉书 李爱武 邢华 郑伟
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 火焰水解法(FHD),致密化,玻璃态SiO2
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 新材料技术
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 2188字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.2002.01.012

摘要

采用火焰水解法(FHD)在Si片(4.5cm)上快速淀积疏松多孔的SiO2厚膜材料,淀积速率达8μm/min.然后将该材料分别在真空/空气气氛中高温致密化处理,获得了各种形态的二氧化硅厚膜.其中包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2厚膜,该膜厚度达到40μm以上,完全适合制作平面光波导器件.最后,利用XRD、SEM、光学显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行了测试分析,并讨论了影响致密化SiO2厚膜结构的各种因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢华	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	29	128	7.0	10.0
2	郑伟	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	37	290	10.0	15.0
3	张玉书	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	20	190	7.0	13.0
4	李爱武	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	13	68	3.0	8.0
5	刘国范	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	14	57	5.0	7.0
6	吴远大	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	10	60	4.0	7.0
7	张乐天	吉林大学电子系光电子国家重点实验室	6	34	3.0	5.0