粒度分布对Cu包覆SiC颗粒相分布均匀性的影响

• 作者: 张锐 虞玲 郭景坤 高濂
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 包覆 分散均匀性 粒度分布 歧化反应
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 1311-1314
• 页数: 4页
• 分类号: TB333
• 字数: 1296字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.06.039

摘要

利用歧化反应原理,在SiC颗粒表面包覆金属Cu.通过俄歇电子能谱(AES),分析粒度分布对Cu包覆SiC颗粒相分布均匀性的影响.SiC颗粒的粒度分布范围过宽,Cu倾向于包覆在大颗粒表面而无法分散到细小颗粒表面.减小粒度分布范围,纳米SiC颗粒同样能被Cu均匀包覆.应当控制纳米SiC颗粒在一个较小的分布范围,以保证理想的Cu包覆效果和两相分散均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高濂	中国科学院上海硅酸盐研究所国家重点实验室	165	5315	44.0	64.0
2	郭景坤	中国科学院上海硅酸盐研究所国家重点实验室	143	3907	35.0	54.0
3	张锐	中国科学院上海硅酸盐研究所国家重点实验室	142	1144	18.0	24.0
7	虞玲	中国科学院上海硅酸盐研究所国家重点实验室	3	48	2.0	3.0