氧化气氛下铜红花釉的研制

• 作者: 杨海波 林营 王芬
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 关键词: 氧化气氛 复合还原剂 铜红花釉
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 8-10
• 页数: 3页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8236.2002.12.003

摘要

通过在基础釉中引入sic及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130～1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王芬		186	1121	17.0	22.0
2	林营		24	114	6.0	9.0
3	杨海波		29	102	6.0	8.0