可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展

• 作者: 干福熹 李青会
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光存储 光盘 氧化物 次氧化物薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 光学材料
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TQ597.5|TB383|TQ594|O484
• 字数: 4813字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2002.01.031

摘要

介绍了可用于可录、可擦除、全息光存储及超分辨掩膜层的氧化物、次氧化物薄膜材料的种类、制备方法、光存储特性和存储机制.这类薄膜材料由于具有种类多、应用范围广、制备方法多样、写入灵敏度高和记录稳定性好等优点,正受到各国研究者越来越多的关注.分析总结了这类材料的研究现状、存在的主要问题和未来发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	李青会	中国科学院上海光学精密机械研究所	64	410	12.0	16.0