同步辐射光刻技术研究进展

• 作者: 伊福庭 叶甜春 张菊芳 彭良强 李兵 胥兴才 董立军 谢常青 赵玪莉 陈大鹏 韩勇 韩敬东
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 X射线光刻 下一代光刻 掩模
• 年，卷（期）: 2002,（10）
• 页码范围: 817-821
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 2699字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2002.10.011

摘要

光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种,具有产业化的应用前景.掩模技术是X射线光刻技术的难点,本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展.