织构和界面粗糙度对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响

• 作者: 于广华 姜宏伟 朱逢吾 李明华 赖武彦
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: NiFe/FeMn 交换偏置场 织构 界面粗糙度
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 160-161,168
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2647字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.02.014

摘要

采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜(分别以Ta、Cu作为缓冲层,Ta作为保护层).实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大,而矫顽力却很小.我们从织构、界面粗糙度两方面对其中的原因进行了分析.以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜有好的织构且NiFe/FeMn界面较平滑,这引起了较强的交换偏置场和较低的矫顽力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
2	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
3	姜宏伟	中国科学院物理研究所	6	13	2.0	3.0
4	赖武彦	中国科学院物理研究所	23	143	7.0	11.0