坩埚下降法晶体生长中输运过程的数值模拟的研究进展

• 作者: 任国浩 宫波 张海斌 沈定中
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 坩埚下降法 输运过程 数值模拟
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 910-914
• 页数: 5页
• 分类号: O78
• 字数: 3876字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.05.002

摘要

全面系统地回顾了坩埚下降法晶体生长中输运过程的数值模拟近二十年来的研究进展,并进一步作了简单总结.揭示了国外采用计算技术研究晶体生长工艺过程的发展状况和重视程度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宫波	中国科学院上海硅酸盐研究所	5	14	3.0	3.0
2	沈定中	中国科学院上海硅酸盐研究所	23	95	6.0	7.0
3	任国浩	中国科学院上海硅酸盐研究所	59	357	9.0	15.0
4	张海斌	中国科学院上海硅酸盐研究所	10	29	4.0	4.0