基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理

• 作者: 吴为民 杨长旗 洪先龙 石蕊 蔡懿慈
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 光学邻近矫正 规则库
• 年，卷（期）: 2002,（7）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 701-706
• 页数: 6页
• 分类号: TN405.97
• 字数: 541字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.07.006

摘要

讨论了如何选择适当的规则,如何建立简洁实用的规则库,如何应用规则库.提出了四种主要的光学邻近矫正规则,在实验结果中列举了规则库中的部分数据.利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善.规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪先龙	清华大学计算机科学与技术系	114	410	9.0	11.0
2	蔡懿慈	清华大学计算机科学与技术系	68	273	8.0	11.0
3	杨长旗	清华大学计算机科学与技术系	7	19	2.0	4.0
4	吴为民	清华大学计算机科学与技术系	22	101	5.0	9.0
5	石蕊	清华大学计算机科学与技术系	4	16	2.0	4.0