CVD SiC涂层的致密化工艺研究

• 作者: 刘晓阳 周新贵 张长瑞
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: CVD SiC 涂层 致密 复合材料
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 材料与表面处理
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TG1
• 字数: 2679字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5311.2002.12.020

摘要

研究了复合材料表面CVD SiC涂层的制备工艺,并对涂层的表面致密化性能进行分析.在不同的工艺条件下制备SiC涂层,探讨了温度、载气流速、时间等因素对涂层的影响.利用扫描电镜和X-射线衍射仪,对涂层晶型进行分析,讨论不同条件下SiC的结晶形态,从而得出制备致密涂层的较好工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张长瑞	国防科技大学航天与材料工程学院	138	1800	24.0	32.0
2	周新贵	国防科技大学航天与材料工程学院	93	1060	19.0	27.0
3	刘晓阳	国防科技大学航天与材料工程学院	7	79	6.0	7.0