利用强流脉冲离子束技术在室温下沉积类金刚石薄膜研究

• 作者: 徐军 梅显秀 马腾才
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 强流脉冲离子束 类金刚石薄膜 XPS Raman谱分析
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1875-1880
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4326字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.08.043

摘要

利用强流脉冲离子束技术在Si基体上快速大面积沉积类金刚石(DLC)薄膜.电压为250kV,束流密度为250A*cm-2,脉宽为80-100ns,能流密度为5J*cm-2的离子束(主要由碳离子和氢离子组成)聚焦到石墨靶材上,使石墨靶材充分蒸发和电离,在石墨靶的法线方向的Si基体上沉积非晶的碳薄膜.Raman谱分析显示,所沉积薄膜为类金刚石薄膜.随着靶材与基体之间距离的减小,薄膜中sp3碳成分含量增加,同时硬度值也有所增大,并且薄膜的摩擦系数和表面粗糙度增加.x射线光电子能谱(XPS)分析显示薄膜中的sp3碳含量为40%左右.由扫描电子显微镜和原子力显微镜观察得知,薄膜表面比较光滑,表面的粗糙度不大.薄膜显微硬度在20-30GPa之间,薄膜的摩擦系数为0.16-0.38之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马腾才		81	688	15.0	21.0
2	徐军		51	346	11.0	14.0
3	梅显秀		12	104	5.0	10.0