光致抗蚀剂曝光的虚膜插入模拟技术

• 作者: 杨华中 汪蕙 范建兴
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学传输矩阵 抗蚀剂曝光 光学薄膜计算
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 886-891
• 页数: 6页
• 分类号: TN405.98+5
• 字数: 3229字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.08.019

摘要

提出了在各膜层之间插入虚膜的计算方法,导出了相应的光学薄膜传输矩阵.该方法使得膜与膜之间解耦,并便于在计算机上存储和计算薄膜的反射率、透射率以及能流密度.对抗蚀剂曝光的计算结果表明这种技术是有效的.