HF激光器腔内气动介质有序扰动的数值模拟

• 作者: 刘泽金 袁圣付 许晓军 陆启生
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: HF化学激光器 不均匀性 气动光学 喷管 数值计算
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 激光器件
• 页码范围: 113-118
• 页数: 6页
• 分类号: TN248.5
• 字数: 3891字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.02.006

摘要

通过对化学激光器腔内介质不均匀性的分析指出,HF连续波化学激光器(CWCL)腔内的气动介质的有序不均匀扰动将是影响输出光束质量的主要因素之一.利用建立的激光器腔内二维折射率分布模型对基频和泛频HF CWCL有无激射条件下腔内气动介质的有序分布进行了数值计算.分析比较了3-Slot(3S)和2-Slot(2S)喷管结构的激光器的性能和气动介质对光束质量的影响.数值模拟指出,在望远式非稳腔输出条件下,腔内1 m喷管阵列的气动介质有序不均匀扰动对光束质量的影响不大,但由于相位扰动的均方差将随喷管阵列长度的平方增大,对于HF泛频输出尤应重视.另外,3S在工作性能和光束质量方面均优于2S.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许晓军	国防科技大学理学院	37	317	11.0	16.0
2	陆启生	国防科技大学理学院	83	1040	18.0	29.0
3	刘泽金	国防科技大学理学院	42	499	12.0	21.0
4	袁圣付	国防科技大学理学院	26	94	6.0	8.0