a-C:F薄膜的热稳定性与光学带隙的关联

• 作者: 叶超 宁兆元 杨慎东 程珊华 黄峰
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化非晶碳膜 光学带隙 退火温度 热稳定性
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 1321-1325
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.06.033

摘要

以CF4和C6H6的混合气体作为气源,在微波电子回旋共振化学气相沉积(ECR-CVD)装置中制备了氟化非晶碳薄膜(a-C:F),并在N2气氛中作了退火处理以考察其热稳定性.通过傅里叶变换红外吸收谱和紫外-可见光谱获得了薄膜中CC双键的相对含量和光学带隙,发现膜中CC键含量与光学带隙之间存在着密切的关联,在高微波功率下沉积的氟化非晶碳膜具有低的光学带隙和较好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
3	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0
4	黄峰	苏州大学物理系	5	41	4.0	5.0
5	杨慎东	苏州大学物理系	4	36	3.0	4.0