氧化物薄膜电化学沉积的研究进展

• 作者: 叶皓 左禹 熊金平 赵景茂
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 化学
• 关键词: 电化学沉积 氧化物薄膜 工艺条件
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: O647.11
• 字数: 3802字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2002.02.002

摘要

综述了氧化物薄膜电化学沉积的工艺条件与参数及其影响,给出了氧化物薄膜沉积的对象,描述了氧化物薄膜的作用和用途.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊金平	北京化工大学材料科学与工程学院	111	1183	21.0	27.0
3	左禹	北京化工大学材料科学与工程学院	211	2052	25.0	32.0
4	赵景茂	北京化工大学材料科学与工程学院	89	1109	20.0	28.0
5	叶皓	北京化工大学材料科学与工程学院	7	82	5.0	7.0