一种高效沉积反应室的设计

• 作者: 熊国刚 肖李鹏
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 低压热化学气相沉积 高效沉积 反应室 设计
• 年，卷（期）: 2002,（10）
• 所属期刊栏目: 生产应用
• 页码范围: 36-37
• 页数: 2页
• 分类号: TG174
• 字数: 1447字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2002.10.016

摘要

利用Arrhenius公式对化学气相沉积的反应进行研究,设计了一种低压热化学气相沉积(LPCVD)高效沉积反应室.在料管的下方与衬底的上方间安放漏斗型筛板,在工艺中有效地提高了氢气的分压,并有利于衬底温度的提高,加快了沉积速率.通过对设计前后钨薄膜的金相组织对比分析后发现,较高的沉积速率可以使沉积薄膜晶粒细小,结构致密,但薄膜与衬底附着力较差,提高衬底温度可有效地提高薄膜与衬底附着力,以弥补因较高的沉积速率带来的薄膜与衬底附着力较差的问题,提高薄膜质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊国刚	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	10	78	5.0	8.0
2	肖李鹏	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	9	88	3.0	9.0