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掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响
掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响
作者:
朱长纯
淮永进
皇甫鲁江
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅
掺杂
场致发射
摘要:
基于漂移-扩散模型和量子理论中的WKB方法,用数值模拟方法分析了材料掺杂浓度对硅锥阴极场致发射特性及工作状态的影响,结果表明,硅锥阴极单纯的场致发射Iemit|E特性受硅材料掺杂浓度的影响很小.但低掺杂硅锥阴极顶端的电位随发射电流增大而明显上升.锥体上电位变化可以等效为一个与锥体形状与掺杂相关的串联电阻的作用,这一电阻对单尖发射电流有负反馈作用.另外,在常规的工作状态下,硅锥阴级的温升并不严重.这些结果可以作为硅锥阴极设计的参考.
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文献信息
篇名
掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响
来源期刊
物理学报
学科
工学
关键词
硅
掺杂
场致发射
年,卷(期)
2002,(2)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
382-388
页数
7页
分类号
TN3
字数
5416字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2002.02.034
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱长纯
西安交通大学电子与信息工程学院
215
2372
22.0
41.0
2
皇甫鲁江
西安交通大学电子与信息工程学院
8
62
3.0
7.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
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参考文献
(2)
节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1991(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2002(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2005(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
硅
掺杂
场致发射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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