化学镀Ni-P-SiC镀层的微观组织结构特征

• 作者: 徐智谋 易新建 郑家燊
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀 复合镀层 SiC微粒
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2517字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2002.09.001

摘要

对化学镀Ni-P-SiC复合镀层的微观组织结构特征进行了研究,结果表明,SiC微粒弥散分布在复合镀层中,Ni-P合金主要作为粘结金属包络着SiC微粒,两者之间存在电子转移,发生了界面反应,反应扩散层为10-1 nm级,界面结合紧密,无孔隙和裂纹等缺陷.元素存在形态主要表现为Ni和P以单质的形式存在,Si以共价健SiC的形式存在,Ni-Ni之间以金属键进行结合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
2	郑家燊	华中科技大学化学系	95	1317	21.0	31.0
3	徐智谋	华中科技大学光电子工程系	21	120	8.0	9.0