基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制

• 作者: 朱军 李以贵 杨春生 金森义明 陈迪
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束扫描曝光 快速原子束刻蚀 亚波长光栅
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 光学技术
• 页码范围: 1008-1010
• 页数: 3页
• 分类号: TN205
• 字数: 2104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2002.08.025

摘要

描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即电子束(EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构.用此加工技术获得了100 nm以下的刻蚀精度,并研制成功亚波长光栅.该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、半导体激光器、无反射表面等需要亚微米结构的器件中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈迪	上海交通大学微纳米科学技术研究院	38	301	8.0	16.0
2	朱军	上海交通大学微纳米科学技术研究院	52	663	14.0	25.0
3	李以贵	上海交通大学微纳米科学技术研究院	19	120	7.0	10.0
4	杨春生	上海交通大学微纳米科学技术研究院	33	314	10.0	16.0