氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

• 作者: 叶超 宁兆元 王响英 程珊华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化非晶碳(α-C∶F)薄膜 光学带隙 键结构
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2640-2643
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3441字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.11.041

摘要

研究了CHF3/C6H6沉积的氟化非晶碳(α-C∶F)薄膜的光学带隙.发现α-C∶F薄膜光学带隙的大小取决于薄膜中C-F,CC的相对含量.这是由于CC形成的窄带隙π键和C-F形成的宽带隙σ键含量的相对变化,改变了带边态密度分布的结果.在微波功率为140-700 W、沉积气压为0.1-1.0 Pa、源气体CHF3∶C6H6流量比为1∶1-10∶1条件下沉积的α-C∶F薄膜,光学带隙在1.76-3.98 eV之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	王响英	苏州大学基础医学系	16	121	5.0	10.0
3	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
4	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0