酞菁染料与氯离子协同效应在酸性镀铜中的作用

• 作者: 刘烈炜 杨志强 田炜 赵志祥 郭沨
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 酸性镀铜 铜酞菁染料 添加剂 旋转圆盘电极
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: TG153.1
• 字数: 2329字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2002.05.008

摘要

采用旋转圆盘电极和交流阻抗方法研究酞菁染料(PC)及其与氯离子协同效应对酸性镀铜电沉积过程的影响,通过选择不同浓度的酞菁染料,研究它们在不同转速下的阴极极化行为和交流阻抗图谱,对其在电极表面的成膜状态作了深入研究 .极化的电位从自然电位到-0.6 V(相对SCUE).结果表明,PC在酸铜电镀中所起的作用更多依赖于其在表面形成吸附膜的结构,而非单纯的电荷吸引.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵志祥	华中科技大学化学系	9	152	7.0	9.0
2	刘烈炜	华中科技大学化学系	36	434	14.0	19.0
3	田炜	华中科技大学化学系	5	115	5.0	5.0
4	郭沨	华中科技大学化学系	2	37	2.0	2.0
5	杨志强		10	163	8.0	10.0