Co-Ni/FeMn双层膜中磁化强度对交换偏置的影响

• 作者: 周仕明 宋金涛 李合印
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 交换偏置 磁化强度
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 917-921
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.04.041

摘要

固定Co-Ni/FeMn双层膜中反铁磁层的厚度,改变Co-Ni铁磁层的成分来调节磁化强度,从而研究铁磁层的饱和磁化强度对Co-Ni/FeMn双层膜中交换偏置的影响. 研究表明,Co-Ni/FeMn界面的交换耦合能U不是一个常量,而是随(MFM)1/2的增加而线性增加.其原因是铁磁层磁矩通过界面相互作用在反铁磁层中形成的局域交换磁场,在磁场冷却时影响反铁磁层的自旋结构或磁畴结构及双层膜中的交换偏置.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周仕明	复旦大学应用表面国家重点实验室和复旦大学物理系	10	118	5.0	10.0
2	李合印	复旦大学光科学与工程系	5	107	3.0	5.0