真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

• 作者: 叶超 宁兆元 杨慎东 程珊华 黄峰
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ECR-CVD a-C:F薄膜,真空退火
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1383-1387
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.06.044

摘要

在苯(C6H6)和四氟化碳(CF4)混合气体中,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ECR-CVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜(a-C:F), 为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理,测量了退火前后膜厚的变化率,并用傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)研究了其结构的变化.结果表明,膜厚变化率与沉积功率有关; 400℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
3	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0
4	黄峰	苏州大学物理系	5	41	4.0	5.0
5	杨慎东	苏州大学物理系	4	36	3.0	4.0