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摘要:
Zinc oxide films were grown on sapphire and Si(001) substrates by reactive electron beam evaporation at low substrate temperatures. Atomic force microscopy (AFM), x-ray diffraction (XRD), and photoluminescence excitation (PLE) are employed to characterize the as-grown films. The AFM measurements have shown that all of the ZnO films present pillar-like growth properties, but the dimensional uniformity of the ZnO crystal pillars grown on sapphire was better than that on Si(001). The XRD results indicated that the prepared ZnO films both on sapphire and Si(001) were all highly c-axis oriented; the linewidths of ZnO (002) are only 0.19° and 0.28°, respectively. The PLE characterizations revealed the continuum absorption of the samples grown on sapphire. However, in the PLE spectra of the ZnO films grown on Si(001) substrates, a broad peak appears at the high-energy region, which indicates the formation of ZnO quantum dot structures on Si(001).
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文献信息
篇名 Comparisons of Structural and Optical Properties of ZnO Films Grown on Sapphire and Si(001)
来源期刊 中国物理快报(英文版) 学科 物理学
关键词
年,卷(期) 2002,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1714-1717
页数 4页 分类号 O4
字数 语种 英文
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中国物理快报(英文版)
月刊
0256-307X
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1984
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