热处理与表面处理工艺

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 表面处理工艺 结晶性能 真空感应熔炼 真空科学 程煜 蒸发沉积 真空退火 玻璃衬底 射线衍射分析 氧含量
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 页码范围: 24-24
• 页数: 1页
• 分类号: TN405

摘要

【正】 0217423真空感应熔炼 CCr25合金氧含量的影响因素[刊]/张程煜//真空科学与技术学报.—2002,22（2）.—157～159,162（L）0217424真空退火对 LiF 和 CaF₂薄膜结晶性能的影响[刊]/万媛//真空科学与技术学报.—2002,22（2）.—146～148（L）研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的 LiF和 CaF₂薄膜的结晶性能的影响。X 射线衍射分析结