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摘要:
日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品,形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品,用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能,保证大屏幕纯平面彩管的品位,日立公司最近开发出新一代XEA电子枪,本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟,对该优异性能的内在原因进行了分析和研究。
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 XEA枪聚焦性能研究
来源期刊 显示器件技术 学科 工学
关键词 聚焦 会聚 偏转像散 最小交叉截面 XEA枪 CRT 彩色显像管
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 5-9
页数 5页 分类号 TN141.32
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李朝明 24 17 3.0 3.0
2 董北斗 18 16 3.0 3.0
3 邹小豹 9 13 2.0 3.0
传播情况
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引文网络
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2003(0)
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研究主题发展历程
节点文献
聚焦
会聚
偏转像散
最小交叉截面
XEA枪
CRT
彩色显像管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
显示器件技术
季刊
陕西咸阳3号信箱
出版文献量(篇)
1151
总下载数(次)
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总被引数(次)
0
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