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摘要:
用直流反应磁控溅射法制备ZAO纳米薄膜,对这种薄膜进行了XRD分析,并对其光、电性能作了详细的研究.结果表明:ZAO薄膜的结构为标准的ZnO纤锌矿相,没有Al2O3相出现;其最低电阻率为4.5×10-4 Ω*cm、可见光透射率在80%以上,红外波段的反射率达70%以上,是优质的透明导电膜.
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文献信息
篇名 透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 ZAO薄膜 X射线衍射 电阻率 透射率 反射率
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 9-11,15
页数 4页 分类号 TG11.3|O484|TN304.31
字数 1735字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.01.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐成海 东北大学机械工程与自动化学院 133 1297 21.0 27.0
2 孙超 中国科学院金属研究所 126 1708 23.0 34.0
3 闻立时 中国科学院金属研究所 117 1859 24.0 36.0
4 陆峰 东北大学机械工程与自动化学院 9 192 7.0 9.0
6 裴志亮 中国科学院金属研究所 19 425 12.0 19.0
7 曹洪涛 中国科学院金属研究所 2 59 2.0 2.0
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真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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3
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19905
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