真空微电子学的研究和进展

• 作者: 刘敏 张晓兵 王保平 雷威
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 真空微电子学 场致发射 新材料 场发射显示器
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 428-433
• 页数: 6页
• 分类号: TN48
• 字数: 5471字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2003.04.025

摘要

真空微电子学是迅速发展的一门新学科,近年来国内外的研究已取得了一系列的成果.本文着重介绍了近两年真空微电子学在微尖性能提高、发射材料、阴极结构以及场致发射应用(主要是场发射显示器)等方面的最新进展.真空微电子学在场发射平面显示器件方面的研究已进入实用阶段,相信近几年在这方面的应用将会获得突破性的进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王保平	东南大学电子工程系	70	304	9.0	13.0
2	雷威	东南大学电子工程系	89	538	12.0	18.0
3	张晓兵	东南大学电子工程系	87	746	13.0	24.0
4	刘敏	东南大学电子工程系	43	70	5.0	7.0