微波消解-HG-AFS测定大米中痕量砷

• 作者: 应兴华 施勇烽 朱智伟 牟仁祥 陈铭学
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 微波消解 氢化物发生 原子荧光光谱法 大米 砷
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 页码范围: 852-855
• 页数: 4页
• 分类号: O657.31
• 字数: 2550字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2003.06.015

摘要

研究了微波消解-氢化物发生-原子荧光光谱法测定大米中痕量砷的方法.建立了大米用微波消解的最佳分析条件,试验了酸、预还原剂用量等对测定砷的影响,并讨论了大米中其他伴生元素对测定的干扰情况,确定了原子荧光光谱仪的参数设置和最佳氢化反应条件.检出限为0.04ng/mL.此法测定标准物质大米粉(GBW 08502)中砷的含量,其结果与证书值相吻合,相对标准偏差为2.5%,回收率为93.9%-115.0%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牟仁祥	农业部稻米及制品质量监督检验测试中心中国水稻研究所	9	161	6.0	9.0
2	陈铭学	农业部稻米及制品质量监督检验测试中心中国水稻研究所	13	198	7.0	13.0
3	应兴华	农业部稻米及制品质量监督检验测试中心中国水稻研究所	7	58	3.0	7.0
4	施勇烽	农业部稻米及制品质量监督检验测试中心中国水稻研究所	1	3	1.0	1.0