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聚合物对还原法合成Pt纳米粒子过程的影响
聚合物对还原法合成Pt纳米粒子过程的影响
作者:
SOMORJAI Gabor A
缪长喜
谢在库
陈庆龄
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
聚合物
Pt
纳米粒子
胶粒稳定性
聚合物/Pt2+摩尔比
摘要:
用H2还原K2PtCl4溶液的方法在常温下合成了Pt纳米粒子.考察了poiy(N-isopropylacrylamide)(PNIPA),poly(N-vinylacetamide)(PNVA)和poly(vinylalcohol)(PVA)等三种可溶于水的聚合物对Pt纳米粒子大小和溶胶稳定性的影响.TEM和溶胶中加入KCl电解质溶液后溶胶稳定性测定结果表明,以PNIPA为稳定剂可获得粒径最小的Pt粒子,且溶胶最为稳定.较高的PNIPA/Pt2+摩尔比对合成小颗粒的Pt纳米粒子有利,而聚合物的分子量对粒子影响不大.Pt晶粒在H2气氛下生长过程较为缓慢,停止通入还原气体H26 h后,晶粒生长才基本完成,但溶胶在6个月后仍保持良好的稳定性.
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文献信息
篇名
聚合物对还原法合成Pt纳米粒子过程的影响
来源期刊
化学学报
学科
化学
关键词
聚合物
Pt
纳米粒子
胶粒稳定性
聚合物/Pt2+摩尔比
年,卷(期)
2003,(11)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
1781-1785
页数
5页
分类号
O6
字数
2943字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0567-7351.2003.11.016
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Pt
纳米粒子
胶粒稳定性
聚合物/Pt2+摩尔比
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
化学学报
主办单位:
中国科学院上海有机化学研究所
中国化学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0567-7351
CN:
31-1320/O6
开本:
大16开
出版地:
上海市零陵路345号
邮发代号:
4-209
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
7168
总下载数(次)
8
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