二氧化硅薄膜的制备及应用

• 作者: 崔敬忠 王永珍 龚国权
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化硅 薄膜 制备方法 综述
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 知识与进展
• 页码范围: 228-233
• 页数: 6页
• 分类号: O484|O484.4
• 字数: 6775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.010

摘要

二氧化硅薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上广泛关注的功能材料.论述了有关二氧化硅薄膜的制备方法,相应性质及其应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚国权		15	290	8.0	15.0
2	崔敬忠		15	208	8.0	14.0
3	王永珍		2	99	2.0	2.0