Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进

• 作者: 李丙旺
• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: BIPOLAR 制造工艺 硼扩散工艺 固相源 交替式 氮化硼圆片 双极电路
• 年，卷（期）: jcdltx_2003,（1）
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TN305

摘要

传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺，主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散，通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源，这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大一些。作为固相源的氮化硼因为在高温下反复进出炉，致使其常常容易变形，均匀性变差。采用一种固相源双面交替式使用法，不但使源片变形程度大大减小，也使硼扩散的均匀性得到很大提高。

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1	李丙旺		12	0	0.0	0.0