国外PtSi-SBIRFPA的技术进展及市场前景

• 作者: 程开富
• 来源期刊: 四川真空
• 学科: 工学
• 关键词: PtSi肖特基势垒红外焦平面阵列 PtSi-SBIRFPA 红外探测器 红外辐射信号 像素 响应
• 年，卷（期）: sczkb_2003,（1）
• 页码范围: 45-55
• 页数: 11页
• 分类号: TN215

摘要

本文全面深入地介绍了PtSi肖特基势垒红外焦平面阵列(PtSi-SBIRFPA)的技术进展及市场前景．从制作技术、像元集成度、NETD、光响应均匀性、量子效率、成品率和成本方面把PtSi单片式红外焦平面陈列(PtSi-MIRFPA)与InSb和HgCdTe混合式红外焦平面阵列(InSb和HgCdTeHIRFPA)技术作了详细的比较，评述了PtSi-MIRFPA技术的发展现状和面临的现实，分析了PtSi-MIRFPA技术的应用范围，目前的市场状况和今后的技术前景。